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產品型號
CG-920廠商性質
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2025-05-22瀏覽次數
2317產品描述
光刻工藝設備產品概述：$n應用于3D封裝、LED、微機電系統、化合物半導體、功率器件等領域$n主要配置：自動對準、自動曝光、LED光源、機器視覺對準系統、高精度硅片承載臺、自動楔形誤差補償系統$n LED 光源：3波長任意配置，支持更多應用場景$n高分辨率、高均勻性；使用壽命長，維護簡便：$n機器視覺對準系統：頂部和底部雙模式對準，大視野、高精度；4種照明光可選，工藝適應性強； 手動、自動模式自由切換
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CG-MLC6廠商性質
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1893產品描述
CG-MLC6系列直寫光刻機是一款精巧型光刻產品。該設備采用數字光刻技術，無需掩模 版，能夠直接將版圖信息轉移到涂有光刻膠的襯底上。CG-MLC6系列功能靈活、體積小、性價比高，專為各高校、實驗室及研究機構量身打造。其主要應用產品包括各類MEMS制作（如MEMS麥克風、壓力傳感器、 加速度計、陀螺儀、超聲波傳感器、壓電傳感器）、掩模板制作等。
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半自動光刻機產品概述：$n應用于3D封裝、LED、微機電系統、化合物半導體、功率器件等領域$n主要配置：自動對準、自動曝光、LED光源、機器視覺對準系統、高精度硅片承載臺、自動楔形誤差補償系統$n LED 光源：3波長任意配置，支持更多應用場景$n高分辨率、高均勻性；使用壽命長，維護簡便：$n機器視覺對準系統：頂部和底部雙模式對準，大視野、高精度；4種照明光可選，工藝適應性強； 手動、自動模式自由切換
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CG-MLC6廠商性質
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1895產品描述
實驗室無掩膜曝光機$nCG-MLC6系列直寫光刻機是一款精巧型光刻產品。該設備采用數字光刻技術，無需掩模 版，能夠直接將版圖信息轉移到涂有光刻膠的襯底上。CG-MLC6系列直寫光刻機功能靈活、體積小、性價比高，專為各高校、實驗室及研究機構量身打造。其主要應用產品包括各類MEMS制作（如MEMS麥克風、壓力傳感器、 加速度計、陀螺儀、超聲波傳感器、壓電傳感器）、掩模板制作等。
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